Полировальные суспензии «ЛЭЙКСИЛ®» PS

«ЛЭЙКСИЛ®» PS –  коллоидная двуокись кремния.

Характеризуется как монодисперсная система с высокой концентрацией по SiO2. Размер мицелл в широком диапазоне с длительным сроком хранения.

Гранулометрический анализ полировальной суспензии «Лэйксил®» PS на сканирующем электронном микроскопе AURIGA CrossBeam.
  • Особенности

Высокая скорость съема полируемого материала, отсутствие дефектов в виде царапин и вытравлений на полируемых поверхностях, стабильность рН в течении всего цикла полирования, оптимальная селективность в технологиях XMП

  • Область применения

Суспензии линейки «ЛЭЙКСИЛ®» PS разработаны специально для полирования металлических, керамических Пластин, электронных и оптоэлектронных устройств (Si, Cu, W, Ta/TaN, SiO2), синтетических сапфиров, других полировальных технологий.

  • Основные физико-химические показатели согласно техническим условиям ТУ 20.13.62-013-61801487-2017 *
Наименование показателя«ЛЭЙКСИЛ®» PS 40/75«ЛЭЙКСИЛ®» PS 2001«ЛЭЙКСИЛ®» PS 2002«ЛЭЙКСИЛ®» PS 2003
рН, ед.рН 10,0 — 10,510,6 — 11,52,10 — 2,359,5 — 10,5
Массовая доля SiO2, % масс.39 — 4128,5 — 30,53,7 — 3,929 — 30,25
Кинематическая вязкость, сСт1,9 — 3,51,3 — 2,51,07 — 1,141,3 — 2,0
Диаметр частиц, нм80 — 12060 — 90100 — 14060 — 90
Радиус частиц, нм52 — 5439,5 — 4159 — 6139,5 — 41
Тип стабилизирующего ионаНатрийКалийИон аммония
Удельная плотность, г/см31,290 — 1,3101,196 — 1,2151,025 — 1,0271,200 — 1,210

*Данные параметры являются базовыми. При необходимости возможна корректировка свойств продукта с учетом запросов потребителя.